2025年3月11日，2025慕尼黑上海光博会在上海新国际博览中心盛大开幕。本届展会以“躬耕不辍，智启新程”为参会主旋律，汇聚全球超过数千家展商，同期举办200余场技术论坛及会议，共同庆祝展会20周年里程碑。天津拓普光研以“引领激光直写技术产业化！开创智能纳米制造新时代！”为主题，携新一代3D折射率成像表征系统亮相本次慕尼黑上海光博会。

展会现场，拓普光研展位人潮涌动，来自国内外众多行业专家、合作伙伴及潜在客户莅临展位，与我们的专业团队进行了深入的交流与洽谈。我们的销售、技术团队以饱满的热情和专业知识，耐心解答客户的好奇与疑问，并详细介绍了我们的产品核心功能和技术优势，并积极探讨行业发展趋势与合作机会。现场气氛热烈，互动频繁，充分展现了我们拓普光研专业高效的企业形象和开放合作的态度。

本次展会圆满落幕！

感谢每一位来宾的支持与关注！

期待明年与您相见！